高精度共晶粘片-非接触光学表面测量-xray检测-北京创世杰科技发展有限公司

产品资料
反应离子刻蚀PECVD系统
简介:

Trion创建于1989年,是一家反应离子刻蚀与沉积系统制造商 Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。 产品占地面积小、成本低,可靠稳定,应用于化学气相沉积PECVD工艺。

产品详情

Oracle III 多腔室系统

由中央真空传输机构(CVT)、真空盒升降机和至多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接,既能够以生产模式运行,也能够作为单个系统独立作业。Oracle III是非常灵活的系统,既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸),也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。
由于Oracle III至多可容纳四个独立的工艺室,其可以有多种不同的工艺组合,其中包括RIE/ICP(反应离子刻蚀机/电感耦合等离子)刻蚀和PECVD沉积。多个室可以同时工作。鉴于所有工艺室均有真空负载锁,工艺运行可靠且没有大气污染。

产品留言
标题
联系人
联系电话
内容
验证码
点击换一张
注:1.可以使用快捷键Alt+S或Ctrl+Enter发送信息!
2.如有必要,请您留下您的详细联系方式!