MPCVD设备应用在哪些领域和行业?

我们所熟知的金刚石的生长沉积离不开MPCVD设备，这是因为要想获得高质量金刚石薄膜，就要使用MPCVD设备。MPCVD设备的谐振腔内没有内部电极，这样就可以避免电极放电所产生的污染。并且它的运**压范围比较宽，所产生等离子体具有密度高、区域大、稳定度高并且不与真空器壁相接触的优点，如此就可以避免器壁对薄膜的污染。在以前的工业中，人们通常习惯性的用已知的磁控管功率源来应用在MPCVD设备系统中，当然那是在没有发现有更好的替换的时候，但是，现在不同往日，随着技术的快速发展，用固态射频微波功率源替代磁控管方案在MPCVD设备系统中的应用已经成为了一个新趋势。所以，MPCVD方法以它独特的优势成为了目前相对有发展前景的高质量金刚石薄膜沉积方法之一。并且它也非常适合光学、电子以及工具级金刚石膜或者单晶和石墨烯等一些物质的沉积，同时在材质表面处理和低温氧化物的生长等方面也有着很大的作用。
MPCVD设备也可以直接在目标衬底材料上生长石墨烯，如240～700 ℃之间，MPCVD设备就可以在不同衬底材料上制备高质量的石墨烯，从而使得石墨烯在微电子领域的应用范围得到了进一步的扩展。

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