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微波等离子体化学气相沉积MPCVD

钻石培育技术已经越来越熟悉的进入人们的视野,MPCVD设备的研发也是提升到了新阶段,那么MPCVD设备是什么呢?
        MPCVD中文名称叫微波等离子体化学气相沉积,MPCVD设备作为优异的钻石培育设备,其工作原理为通过微波源产生微波,在微波场的作用下,反应气体被激发为等离子体状态。等离子体是部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质。等离子体呈球状形成于金刚石衬底上,利用等离子体的高温让衬底可以加热到一定的温度。用5KW 微波功率的MPCVD设备,可以以微米级每小时的速率沉积工具级金刚石膜、热沉级金刚石膜、光学级金刚石膜等。

        MPCVD设备能沉积高纯度的金刚石膜,其沉积速率也可以通过加大微波功率来提高。装置设计人员将微波频率从2.45GHz降低到915MHz。如果使用915MHz频率的微波MPCVD设备装置,就可以使微波功率提高很多,而微波功率的加大则能大幅度地提高金刚石膜的沉积速率,从而降低生产成本,提高生产效率。一般2.45GHz频率的MPCVD设备,它的微波功率一般不超过8KW,微波频率的降低就可以使驻波腔截面积加大,使得金刚石膜的沉积面积加大,而沉积金刚石膜的直径也从1.5KW微波功率的50mm金刚石膜上升到75KW微波功率的250mm金刚石膜。


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